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多路质子PECVD，镀膜机、等离子反应器、气相沉积试验机

更新时间：2020-04-20 信息编号：1106100
多路质子PECVD，镀膜机、等离子反应器、气相沉积试验机
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  • 等离子反应器,镀膜机,PECVD气相沉积试,

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多路质子混气PECVD系统为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD成为等离子体增强化学气相沉积。PECVD法是用500W交流等离子体与0TF1200X60、多通道精密质量流量计和高真空系统气体组成 技术参数 ■开启式管式炉：工作温度:1200℃ 炉管尺寸：Φ60，Φ60，中80都可用 温度控制器:30段高精度数宁可编程温度掉制器 加热区长度:200m 恒温区长度:200mm ■等离子射频电源：输出功率:50-500w人可调
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